Дослідження ВТНП-плівок, Детальна інформація
Дослідження ВТНП-плівок
(1.2.8)
(N(t)=t-1 , t(1
Для надпровідникової плівки, товщина якої h((L поверхневий імпеданс Z рівний її хвильовому імпедансу Z=W. Використовуючи (1.2.4) для дійсної частини Z отримаємо [ 15 ]:
, (L<<(N. (1.2.9)
Удосконалення технології росту кристалів і методики вимірювань дозволить отримувати значення R, близькими до теоретичних розрахунків, зроблених на основі [ 14 ]
\xF031\xF02E\xF033\xF02E\xF020\xF0CF\xF0EE\xF0ED\xF0FF\xF0F2\xF0F2\xF0FF\xF020\xF0EF\xF0EE\xF0E2\xF0E5\xF0F0\xF0F5\xF0ED\xF0E5\xF0E2\xF0EE\xF0E3\xF0EE\xF020\xF069\xF0EC\xF0EF\xF0E5\xF0E4\xF0E0\xF0ED\xF0F1\xF0F3\xF02E
Вище сказане у п.1.1 вiдносилось до випадку постiйного магнiтного поля та струму. Для даної роботи бiльш актуальним є випадок змiнного НВЧ поля та струму.
Для введення поверхневого iмпедансу розглянемо випадок, коли металева поверхня спiвпадає з площиною XY, а метал займає напiвпростiр в напрямку осi z (Рис.1.3.1.). Метал будемо вважати однорідним , ізотропним і лінійним.
Рiвняння Максвела, нехтуючи струмом зміщення, для комплексних амплiтуд можна записати:
(1.3.1)
Рис.1.3.1. До введення поняття поверхневого імпедансу.
Як було раніше вказано, закон змiни електромагнiтного поля можна взяти у виглядi плоскої хвилі, тобто eі(t.
j=0 , отримаємо:
,
, (1.3.2.)
,
що стосовно до нормальних компонент змiнних полiв означає, що Еn(0, Hn(0, jn(0. Нехтуючи тангенцiйними похiдними з перших двох рiвнянь (1.3.1) витiкає
, (1.3.3)
,
- одиничний вектор нормалi до поверхнi, направлений в середину металу.
, знаходимо
,
(1.3.4)
- комплексна амплiтуда повного струму, що перетинає безмежну площадку одиничної ширини, розташовану перпендикулярно струму. У випадку iзотропного металу для одномiрної задачi завжди можна написати
, (1.3.5)
де (k - комплексна величина, що залежить вiд частоти i параметрiв металу.
(N(t)=t-1 , t(1
Для надпровідникової плівки, товщина якої h((L поверхневий імпеданс Z рівний її хвильовому імпедансу Z=W. Використовуючи (1.2.4) для дійсної частини Z отримаємо [ 15 ]:
, (L<<(N. (1.2.9)
Удосконалення технології росту кристалів і методики вимірювань дозволить отримувати значення R, близькими до теоретичних розрахунків, зроблених на основі [ 14 ]
\xF031\xF02E\xF033\xF02E\xF020\xF0CF\xF0EE\xF0ED\xF0FF\xF0F2\xF0F2\xF0FF\xF020\xF0EF\xF0EE\xF0E2\xF0E5\xF0F0\xF0F5\xF0ED\xF0E5\xF0E2\xF0EE\xF0E3\xF0EE\xF020\xF069\xF0EC\xF0EF\xF0E5\xF0E4\xF0E0\xF0ED\xF0F1\xF0F3\xF02E
Вище сказане у п.1.1 вiдносилось до випадку постiйного магнiтного поля та струму. Для даної роботи бiльш актуальним є випадок змiнного НВЧ поля та струму.
Для введення поверхневого iмпедансу розглянемо випадок, коли металева поверхня спiвпадає з площиною XY, а метал займає напiвпростiр в напрямку осi z (Рис.1.3.1.). Метал будемо вважати однорідним , ізотропним і лінійним.
Рiвняння Максвела, нехтуючи струмом зміщення, для комплексних амплiтуд можна записати:
(1.3.1)
Рис.1.3.1. До введення поняття поверхневого імпедансу.
Як було раніше вказано, закон змiни електромагнiтного поля можна взяти у виглядi плоскої хвилі, тобто eі(t.
j=0 , отримаємо:
,
, (1.3.2.)
,
що стосовно до нормальних компонент змiнних полiв означає, що Еn(0, Hn(0, jn(0. Нехтуючи тангенцiйними похiдними з перших двох рiвнянь (1.3.1) витiкає
, (1.3.3)
,
- одиничний вектор нормалi до поверхнi, направлений в середину металу.
, знаходимо
,
(1.3.4)
- комплексна амплiтуда повного струму, що перетинає безмежну площадку одиничної ширини, розташовану перпендикулярно струму. У випадку iзотропного металу для одномiрної задачi завжди можна написати
, (1.3.5)
де (k - комплексна величина, що залежить вiд частоти i параметрiв металу.
The online video editor trusted by teams to make professional video in
minutes
© Referats, Inc · All rights reserved 2021